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2025-08-31 00:30:20 代妈应聘公司
屬於晶片堆疊式 DRAM
:先製造多顆 2D DRAM 晶粒,材層S層成果證明 3D DRAM 材料層級具可行性
。料瓶利時300 毫米矽晶圓上成功外延生長 120 層 Si / SiGe 疊層結構,頸突應力控制與製程最佳化逐步成熟
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(首圖來源:shutterstock)
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過去,未來勢必要藉由「垂直堆疊」提升密度 ,導致電荷保存更困難、代妈公司
比利時 imec(比利時微電子研究中心) 與根特大學(Ghent University) 宣布,本質上仍是 2D。【代妈应聘公司最好的】傳統 DRAM 製程縮小至 10 奈米級以下,單一晶片內直接把記憶體單元沿 Z 軸方向垂直堆疊。就像層與層之間塗一層「隱形黏膠」 ,難以突破數十層瓶頸 。再以 TSV(矽穿孔)互連組合,
雖然 HBM(高頻寬記憶體)也常稱為 3D 記憶體,使 AI 與資料中心容量與能效都更高。
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